Il sistema di sputtering ad alto vuoto: un'innovazione nel campo della tecnologia dei film sottili

Un sistema di sputtering ad alto vuoto che unisce funzionalità e design

Il sistema di sputtering ad alto vuoto è utilizzato nei laboratori di ricerca di fama mondiale per i dispositivi superconduttori e quantistici. Tuttavia, la maggior parte dei sistemi presenti sul mercato si concentra solo sulla funzionalità, trascurando l'aspetto estetico e l'interazione con l'utente. Il designer Yang Yang ha sviluppato un sistema di sputtering ad alto vuoto che integra un design esteticamente piacevole, un'interfaccia utente intuitiva e un'ergonomia impeccabile.

Questo sistema di sputtering ad alto vuoto rappresenta una svolta rispetto ai modelli tradizionali. Basandosi sulle esigenze degli utenti e degli ambienti in cui viene utilizzato, il sistema integra diversi fattori di design industriale. La sua caratteristica principale è la modalità di combinazione modulare, che permette un'installazione, un trasporto e una manutenzione più semplici. Il design complessivo è elegante e raffinato, con una finitura superficiale curata e una maschera acrilica traslucida di tonalità grigia, che conferisce al sistema un aspetto semplice, moderno e affascinante. L'ergonomia e l'interazione sono state considerate attentamente nella progettazione dello schermo di controllo.

Per realizzare questo design, sono stati utilizzati materiali di alta qualità come la lamiera di acciaio e l'alluminio. La superficie del sistema è stata trattata con una tecnologia di verniciatura ecologica, mentre la maschera è realizzata in acrilico. Il design del corpo è stato realizzato tramite serigrafia.

Le specifiche tecniche di questo sistema di sputtering ad alto vuoto sono le seguenti: larghezza 2800 mm, profondità 1200 mm, altezza 1500 mm.

Questo sistema di sputtering ad alto vuoto consente di depositare film sottili metallici e dielettrici su substrati fino a 300 mm. Le sorgenti di sputtering a magnetron, che utilizzano alimentazione RF, DC o DC pulsata, possono operare in modalità singola o in co-deposizione per produrre film che soddisfano una vasta gamma di requisiti.

Il progetto di questo sistema di sputtering ad alto vuoto è stato avviato nel gennaio 2020 a Huai'an, nella provincia di Jiangsu, in Cina, e si è concluso nel novembre 2020 nello stesso luogo.

Questo sistema di sputtering ad alto vuoto è il risultato di una collaborazione tra designer e ingegneri. È stato sviluppato sulla base delle ricerche scientifiche dell'università e delle condizioni tecniche disponibili per l'aggiornamento e il miglioramento del sistema.

La sfida più grande di questo progetto è stata trovare un equilibrio tra il sistema nel suo complesso, la modalità di utilizzo, il design ergonomico e l'interazione nel sistema di controllo.

Il sistema è dotato di diverse camere ad alto vuoto, tra cui una camera di evaporazione, una camera di sputtering, una camera di lavorazione, una camera di caricamento e una sorgente di evaporazione a fascio di elettroni. L'intero sistema è completamente controllato in modo automatico e supporta la modalità semiautomatica, la modalità manuale e la manutenzione remota. Il sistema di sputtering ad alto vuoto presenta un design pulito e intuitivo, una finitura accurata e una superficie liscia e brillante, che conferiscono al sistema un aspetto morbido, semplice, moderno e affascinante. Il design ergonomico è stato curato nei minimi dettagli.

Questo sistema di sputtering ad alto vuoto è stato premiato con il Bronzo nell'A' Design Award nella categoria "Design di macchinari per la produzione e la lavorazione" nel 2021. Questo premio riconosce i design eccezionali e creativamente ingegnosi che dimostrano esperienza e ingegnosità. Questi design incorporano le migliori pratiche nell'arte, nella scienza, nel design e nella tecnologia, dimostrano una forte competenza tecnica e creativa e contribuiscono al miglioramento della qualità della vita, rendendo il mondo un posto migliore.

Crediti immagini: Immagine #1: Fotografo Yang Yang, Variations, 2020. Immagine #2: Fotografo Lei Wang, Variations, 2020. Immagine #3: Fotografo Menghua Wang, Variations, 2020. Immagine #4: Fotografo Lei Wang, Variations, 2020. Immagine #5: Fotografo Lei Wang, Variations, 2020.


Dettagli del Progetto e Crediti

Designer del Progetto: Yong Zhang
Crediti dell'Immagine: Image #1: Photographer Yang Yang, Variations, 2020. Image #2: Photographer Lei Wang, Variations, 2020. Image #3: Photographer Menghua Wang, Variations, 2020. Image #4: Photographer Lei Wang, Variations, 2020. Image #5: Photographer Lei Wang, Variations, 2020.
Membri del Team del Progetto: Yang Yang Lei Wang Menghua Wang Chi Rui Yu Jiang Shuchang Cui Zhe Li
Nome del Progetto: Ultra High Vacuum Sputtering System
Cliente del Progetto: Yong Zhang


Ultra High Vacuum Sputtering System IMG #2
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